Jump to content

Recommended Posts

Posted

კომპანია Samsung-ი სრულებით იყენებს ნახევარგამტარი ლითოგრაფიის მოწინავის უპირატესობას EUV დიაპაზონის სკანერის გამოყენებით. TSMC ჯერ კიდევ მზადებაშია დაიწყოს 13,5 ნანომეტრიანი სკანერის გამოყენება ივნისში, რომელიც ადაპტირებული იქნება 7-ნანომეტრიან ტექნოპროცესთან Samsung-ი კი უფრო წინ წავიდა და  აცხადებს, რომ დაასრულა 5 ნანომეტრიან ტექნოპროცესზე მუშაობა. უფრო მეტიც, სამხრეთკორეულმა გიგანტმა განაცხადა, რომ იწყებს შეკვეთების მიღებას 5 ნანომეტრიან გადაწყვეტილებებზე Samsung-ი მზადაა მიიღოს 5 ნმ ჩიპების ციფრული პროექტები და გამოუშვას 5 ნანომეტრიანი სილიკონის პარტიები. 

image.png 

Samsung Foundry-ს მიღწევები  EUV სფეროში 

7 ნანომეტრიანი ტექნოპროცესიდან 5 ნანომეტრიანზე სწრაფ გადასვლაში კომპანიას ხელი შეუწყო იმან, რომ  Samsung-მა შეინარჩუნა თანამედროვეობა საპროექტო ელემენტებშ, დაპროექტების ინსტრუმენტებსა და კონტროლში. სხვა ყველაფერან ერთად ეს ნიშნავს იმას, რომ კომპანიის კლიენტები დაზოგავენ რესურსებს პროექტირებში, ტესტირებებსა და IP-ბლოკებში. 

image.png 

EUV სკანერის გამოყენებით 7 ნანომეტრიან ტექნოლოგიასთან შედარებით (რომელიც კომპანიამ გასული წლის ოქტომბერშ გამოუშვა), 5 ნანომეტრიანი ტექნოლოგია უზრუნველყოფს კრისტალის 25%-ით უფრო ეფექტურ გამოყენებას, აგრეთვე 10%-ით გაზრდილ წარმადობას. კიდევ ერთი ბონუსი იქნება ფოტონიღბების რიცხვის შემცირება, რომლებიც აუილებელია ნახევარგამტარი წარმოებისათვის. 

Create an account or sign in to comment

You need to be a member in order to leave a comment

Create an account

Sign up for a new account in our community. It's easy!

Register a new account

Sign in

Already have an account? Sign in here.

Sign In Now
×
×
  • Create New...

Important Information

We have placed cookies on your device to help make this website better. You can adjust your cookie settings, otherwise we'll assume you're okay to continue.