Magdalena Posted April 17, 2019 Posted April 17, 2019 კომპანია Samsung-ი სრულებით იყენებს ნახევარგამტარი ლითოგრაფიის მოწინავის უპირატესობას EUV დიაპაზონის სკანერის გამოყენებით. TSMC ჯერ კიდევ მზადებაშია დაიწყოს 13,5 ნანომეტრიანი სკანერის გამოყენება ივნისში, რომელიც ადაპტირებული იქნება 7-ნანომეტრიან ტექნოპროცესთან. Samsung-ი კი უფრო წინ წავიდა და აცხადებს, რომ დაასრულა 5 ნანომეტრიან ტექნოპროცესზე მუშაობა. უფრო მეტიც, სამხრეთკორეულმა გიგანტმა განაცხადა, რომ იწყებს შეკვეთების მიღებას 5 ნანომეტრიან გადაწყვეტილებებზე: Samsung-ი მზადაა მიიღოს 5 ნმ ჩიპების ციფრული პროექტები და გამოუშვას 5 ნანომეტრიანი სილიკონის პარტიები. Samsung Foundry-ს მიღწევები EUV სფეროში 7 ნანომეტრიანი ტექნოპროცესიდან 5 ნანომეტრიანზე სწრაფ გადასვლაში კომპანიას ხელი შეუწყო იმან, რომ Samsung-მა შეინარჩუნა თანამედროვეობა საპროექტო ელემენტებში, დაპროექტების ინსტრუმენტებსა და კონტროლში. სხვა ყველაფერთან ერთად ეს ნიშნავს იმას, რომ კომპანიის კლიენტები დაზოგავენ რესურსებს პროექტირებში, ტესტირებებსა და IP-ბლოკებში. EUV სკანერის გამოყენებით 7 ნანომეტრიან ტექნოლოგიასთან შედარებით (რომელიც კომპანიამ გასული წლის ოქტომბერში გამოუშვა), 5 ნანომეტრიანი ტექნოლოგია უზრუნველყოფს კრისტალის 25%-ით უფრო ეფექტურ გამოყენებას, აგრეთვე 10%-ით გაზრდილ წარმადობას. კიდევ ერთი ბონუსი იქნება ფოტონიღბების რიცხვის შემცირება, რომლებიც აუცილებელია ნახევარგამტარი წარმოებისათვის. https://3dnews.ru/985921 Quote
Recommended Posts
Join the conversation
You can post now and register later. If you have an account, sign in now to post with your account.