Samsung Electronics-ი იწყებს 7 ნანომეტრიანი პროდუქციის წარმოებას EUV-ლითოგრაფიის გამოყენებით

[Magdalena]

როგორც ჩანს, კომპანია Samsung Electronics-ი აღარ აპირებს შეეგუოს კონკურენტებთან ჩამორჩენას ულტრაიისფერი ლითოგრაფიის გამოყენების სფეროში. მიმდინარე კვირაში კომპანიამ განაცხადა, რომ მზად არის, გამოუშვას 7 ნანომეტრიანი პროდუქცია EUV-ლითოგრაფიის გამოყენებით. ე.წ. LPP-ტექნოპროცესი უპირატესად ორიენტირებულია გამოუშვას პროდუქცია, რომელსაც ნაკლები ენერგომოთხოვნა აქვს (სატელეკომუნიკაციო და მობილური სფეროსთვის), თუმცა კომპანია იუწყება, რომ იგი ადაპტირებადი იქნება სერვერული სეგმენტის საჭიროებასთან.  

ფოტოს წყარო: Samsung Electronics 

განსხვავებით ჩვეულებრივი ტექნოპროცესისგან -  სადაც გამოიყენება 193 ნანომეტრიანი ლაზერი და არგონის ფტორიდი, 7 ნანომეტრიანი EUV- ვერსია საშუალებას იძლევა, გამოყენებულ იქნას ოთხის ნაცვლად მხოლოდ ერთი photomask-ი რაც თავისთავად ამცირებს მატერიალურ დანახარჯებს და დამუშავების დროსაც. საშუალოდ, აუცილებელი photomask-ების რაოდენობა 20%-ით შემცირდება. კომპანია Samsung-ი ამტკიცებს, რომ  წლიური პროდუქციის წარმოების დონე გაიზრდება EUV-ზე გადასვლით.  

ნახევარგამტარი პროდუქციის განთავსების სიმჭიდროვე იზრდება 40%-ით, 20%-ით გაიზრდება ტრანზისტორების სწრაფქმედება 10 ნანომეტრიან ტექპროცესთან შედარებით, ანდა 50%-თ შემცირდება ენერგომოხმარება. Samsung-ი გვპირდება, რომ 2020 წლისთვის გააფართოებს პროდუქციის წარმადობის შესაძლებლობებს EUV-ლითოგრაფიის გამოყენების მიმართულებით.   

https://bit.ly/2pZUMHS