Magdalena Posted April 17, 2019 Share Posted April 17, 2019 კომპანია Samsung-ი სრულებით იყენებს ნახევარგამტარი ლითოგრაფიის მოწინავის უპირატესობას EUV დიაპაზონის სკანერის გამოყენებით. TSMC ჯერ კიდევ მზადებაშია დაიწყოს 13,5 ნანომეტრიანი სკანერის გამოყენება ივნისში, რომელიც ადაპტირებული იქნება 7-ნანომეტრიან ტექნოპროცესთან. Samsung-ი კი უფრო წინ წავიდა და აცხადებს, რომ დაასრულა 5 ნანომეტრიან ტექნოპროცესზე მუშაობა. უფრო მეტიც, სამხრეთკორეულმა გიგანტმა განაცხადა, რომ იწყებს შეკვეთების მიღებას 5 ნანომეტრიან გადაწყვეტილებებზე: Samsung-ი მზადაა მიიღოს 5 ნმ ჩიპების ციფრული პროექტები და გამოუშვას 5 ნანომეტრიანი სილიკონის პარტიები. Samsung Foundry-ს მიღწევები EUV სფეროში 7 ნანომეტრიანი ტექნოპროცესიდან 5 ნანომეტრიანზე სწრაფ გადასვლაში კომპანიას ხელი შეუწყო იმან, რომ Samsung-მა შეინარჩუნა თანამედროვეობა საპროექტო ელემენტებში, დაპროექტების ინსტრუმენტებსა და კონტროლში. სხვა ყველაფერთან ერთად ეს ნიშნავს იმას, რომ კომპანიის კლიენტები დაზოგავენ რესურსებს პროექტირებში, ტესტირებებსა და IP-ბლოკებში. EUV სკანერის გამოყენებით 7 ნანომეტრიან ტექნოლოგიასთან შედარებით (რომელიც კომპანიამ გასული წლის ოქტომბერში გამოუშვა), 5 ნანომეტრიანი ტექნოლოგია უზრუნველყოფს კრისტალის 25%-ით უფრო ეფექტურ გამოყენებას, აგრეთვე 10%-ით გაზრდილ წარმადობას. კიდევ ერთი ბონუსი იქნება ფოტონიღბების რიცხვის შემცირება, რომლებიც აუცილებელია ნახევარგამტარი წარმოებისათვის. https://3dnews.ru/985921 Quote Link to comment Share on other sites More sharing options...
Recommended Posts
Join the conversation
You can post now and register later. If you have an account, sign in now to post with your account.