Magdalena Posted October 19, 2018 Share Posted October 19, 2018 როგორც ჩანს, კომპანია Samsung Electronics-ი აღარ აპირებს შეეგუოს კონკურენტებთან ჩამორჩენას ულტრაიისფერი ლითოგრაფიის გამოყენების სფეროში. მიმდინარე კვირაში კომპანიამ განაცხადა, რომ მზად არის, გამოუშვას 7 ნანომეტრიანი პროდუქცია EUV-ლითოგრაფიის გამოყენებით. ე.წ. LPP-ტექნოპროცესი უპირატესად ორიენტირებულია გამოუშვას პროდუქცია, რომელსაც ნაკლები ენერგომოთხოვნა აქვს (სატელეკომუნიკაციო და მობილური სფეროსთვის), თუმცა კომპანია იუწყება, რომ იგი ადაპტირებადი იქნება სერვერული სეგმენტის საჭიროებასთან. ფოტოს წყარო: Samsung Electronics განსხვავებით ჩვეულებრივი ტექნოპროცესისგან - სადაც გამოიყენება 193 ნანომეტრიანი ლაზერი და არგონის ფტორიდი, 7 ნანომეტრიანი EUV- ვერსია საშუალებას იძლევა, გამოყენებულ იქნას ოთხის ნაცვლად მხოლოდ ერთი photomask-ი რაც თავისთავად ამცირებს მატერიალურ დანახარჯებს და დამუშავების დროსაც. საშუალოდ, აუცილებელი photomask-ების რაოდენობა 20%-ით შემცირდება. კომპანია Samsung-ი ამტკიცებს, რომ წლიური პროდუქციის წარმოების დონე გაიზრდება EUV-ზე გადასვლით. ნახევარგამტარი პროდუქციის განთავსების სიმჭიდროვე იზრდება 40%-ით, 20%-ით გაიზრდება ტრანზისტორების სწრაფქმედება 10 ნანომეტრიან ტექპროცესთან შედარებით, ანდა 50%-თ შემცირდება ენერგომოხმარება. Samsung-ი გვპირდება, რომ 2020 წლისთვის გააფართოებს პროდუქციის წარმადობის შესაძლებლობებს EUV-ლითოგრაფიის გამოყენების მიმართულებით. https://bit.ly/2pZUMHS Quote Link to comment Share on other sites More sharing options...
Recommended Posts
Join the conversation
You can post now and register later. If you have an account, sign in now to post with your account.